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李哲、劉冬梅、蔡笑天、韓軍徽、楊晶:發(fā)展新質(zhì)生產(chǎn)力需要圍繞戰(zhàn)略制高點(diǎn)前瞻系統(tǒng)布局

日期:2024-05-20        來(lái)源:戰(zhàn)略研究參考2024年3月(第6期)

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習(xí)近平總書記強(qiáng)調(diào),科技創(chuàng)新是發(fā)展新質(zhì)生產(chǎn)力的核心要素,必須加強(qiáng)科技創(chuàng)新特別是原創(chuàng)性、顛覆性科技創(chuàng)新,加快實(shí)現(xiàn)高水平科技自立自強(qiáng),打好關(guān)鍵核心技術(shù)攻堅(jiān)戰(zhàn),使原創(chuàng)性、顛覆性科技創(chuàng)新成果競(jìng)相涌現(xiàn),培育發(fā)展新質(zhì)生產(chǎn)力的新動(dòng)能。這些重要論述充分表明,科學(xué)技術(shù)前沿領(lǐng)域的突破,決定著新質(zhì)生產(chǎn)力的形成和發(fā)展方向,是可持續(xù)發(fā)展能力和國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力的戰(zhàn)略制高點(diǎn)。為搶占新質(zhì)生產(chǎn)力的戰(zhàn)略制高點(diǎn),亟需從科技前沿研判、學(xué)科布局、戰(zhàn)略力量、組織方式、區(qū)域特色等方面進(jìn)行前瞻系統(tǒng)布局,盡快形成新的體系化能力。


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